大粒径硅溶胶因可以作为一种良好的CMP抛光原料而引起人们的广泛关注，现摘录部分大粒径硅溶胶生产方面的专利，供大家交流学习。

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专利名称：高纯度、高浓度、高均匀颗粒分布的大颗粒二氧化硅溶胶的制造方法

公开号：CN1155514A

专利名称：高纯超细硅溶胶的制备

公开号：CN1064878A

专利名称：大粒径、低浓度硅溶胶的制备方法

公开号：CN86104144A